Atonarp 适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston™

上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!

Aston™ 特性
 实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
 半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
 采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
 可与大批量生产工具集成
Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供更高控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.

Atonarp  Aston™ 技术参数

类型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型号	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
质量分离	四级杆
真空系统	分子泵	分子泵 隔膜泵	分子泵	分子泵 隔膜泵	分子泵	分子泵 隔膜泵
检测器	FC /SEM
质量范围	2-285		2-220		2-285
分辨率	0.8±0.2
检测限	0.1 PPM
工作温度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)		400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Atonarp  Aston™ 应用: 半导体工艺过程控制和优化的重大发展, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新设计坚固耐用的紧凑型在线质谱仪, 适用于半导体制造和工业过程控制应用中气体监测和控制, 高定量精度和实时性与生产稳健性和可靠性相结合, 例如半导体 dry pump 尾气侦测分析, 实现在线监控, 诊断.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物过渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
 Chamber Matching: 识别跟踪分子