据IBM官网消息，美国纽约州州长宣布与IBM、美光以及其他行业参与者合作，投资100亿美元在纽约州 Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。
IBM称，这将是北美第一个也是唯一一个拥有高数值孔径极紫外光刻(高NA EUV)系统的公共研发中心，可为开发和生产小于2nm的节点芯片铺平道路。
据IBM官网消息，美国纽约州州长宣布与IBM、美光以及其他行业参与者合作，投资100亿美元在纽约州 Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。
IBM称，这将是北美第一个也是唯一一个拥有高数值孔径极紫外光刻(高NA EUV)系统的公共研发中心，可为开发和生产小于2nm的节点芯片铺平道路。
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