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光刻工艺
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光刻工艺
光刻工艺相关厂家
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严选光刻工艺厂家，提供从光刻工艺设计、研发、生产制造深耕产品，打造值得信赖的传感器品牌，解决选品、技术支持问题，实现采购放心、售后无忧。
乾宇微纳技术
类型：
制造商
产品数量：
0
公司创始团队均来自世界500强企业，在创新型
光刻
技术领域拥有近10年的研发和应用量产经验，具备
光刻
材料的研发与制造能力、高精度
光刻
工
艺
到产品的落地能力。 公司以专用于无源器件的
光刻
技术为核心，通过配套的
光刻
工
艺
和系统集成能力为客户提供元器件的微纳制造解决方案。 乾宇新型
光刻
技术在精度、可靠性、灵活性及成本等方面能够很好地解决亚微米电路结构量产化的应用兼容性问题，填补无源器件和无源集成系统在0.1-25um级的微纳制造技术空白。 未来，乾宇还将在交互/传感、先进封装、射频模块等领域不断开拓
光刻
技术的跨行业新应用，秉持探索、共享、共赢的企业理念不断前行。
DJEL 东方晶源
类型：
制造商
产品数量：
0
主要产品OPC计算
光刻
产品OPCOPC是连接芯片设计和制造的关键技术，应用于
光刻
掩模版优化及
光刻
机光源优化，是决定产品良率的重要环节之一。 东方晶源OPC产品采用先进的全芯片反向
光刻
技术（ILT），通过深度学习和大数据对
光刻
制程精确建模，优化
工艺
窗口，确保良率；同时基于HPO的整体设计理念具有上下游的可扩展性，无缝连接设计和制造，实现芯片良率的显著提升 SEpA-i系列电子束缺陷检测设备（EBI），面向300mm硅片的主流
工艺
制程。 SEpA-c系列电子束关键尺寸量测设备（CD-SEM），面向150mm/200mm/300mm硅片
工艺
制程。 PanGen Sim严格
光刻
仿真软件PanGen Sim严格
光刻
仿真软件PanGen Sim采用物理模型对
光刻
过程进行建模，精确模拟
光刻
工
艺
，帮助
光刻
工
艺
工程师进行新技术节点研发和改进产品
工艺
，同时大大减少研发成本
Kingsemi 芯源微电子
类型：
制造商
产品数量：
0
沈阳芯源微电子设备股份有限公司 成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于为客户提供半导体装备与
工艺
整体解决方案。 上海芯源微主要开展28nm及以下高端
工艺
技术节点的集成电路
光刻
工
艺
涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，打造更高技术节点半导体设备，更好服务前道用户。
SZTU 微纳加工中心
类型：
制造商 服务商
产品数量：
0
平台特色平台服务，
光刻
工
艺
设备和键合
工艺
设备，薄膜
工艺
设备，离子注入/退火设备和干法刻蚀
工艺
设备，湿法刻蚀
工艺
和后道
工艺
设备，测量表征设备，外延
工艺
设备，微纳加工中心
工艺
模块
OEIC 光电子先导院
类型：
制造商 服务商
产品数量：
0
）等化合物半导体材料的
光刻
、刻蚀、薄膜制备等关键
工艺
能力，是集研发、中试、检测等全流程技术服务于一体的光电子芯片共性技术平台。 团队带头人拥有17年的集成电路行业经历，在6英寸、8英寸、12英寸集成电路生产线负责
工艺
管理工作，熟悉从8μm到65nm制程，
工艺
技术及管理经验丰富。 共同研发流程：接到需求——根据
工艺
或产品需制定开发计划——关键节点的
工艺
复盘与品质认定——交付。 研发定制晶圆代工单步
工艺
代工
光刻
工
艺
接触式
光刻
最小图形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm步进式
光刻
最小图形尺寸：0.5μm，套刻精度：±0.1μm金属薄膜
工艺
、介质薄膜
工艺
、蚀
刻工
艺
、化学
工艺
、减薄
工艺
、激光划片成套
工艺
代工VCSEL器件
工艺
、GaAs功率器件
工艺
定制
工艺
代工我们可根据您的
工艺
具体需求，进行定制化的代工，请填写下面的信息，我们会尽快与您取得联系。
iRay 奕瑞科技
类型：
制造商
产品数量：
0
这两个元件均采用非晶硅制造而成，通过
光刻
工
艺
安装在大面积玻璃基板上。柔性传感器用于 X 射线成像的柔性图像传感器由二维结构组成，其中 TFT和光电二极管均安装在柔性基板。
NIL Technology （NILT）
类型：
制造商
产品数量：
0
我们对纳米
光刻
工
艺
有着深刻的技术理解，并在最先进的硅处理洁净室中开发制造产品。通过与 NILT 合作，您可以确保卓越是我们始终努力实现的价值。确保未来“卓越源于我们员工的热情和技能。 我们致力于提供最高质量的产品和
工艺
。质量是确保公司成功的关键。我们承诺继续倾听产品用户的意见，了解和理解他们的需求，并及时实施可持续的运营改进。
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